研究了钠铁硅系统玻璃的形成区和磁化率。结果证明：（1）在一定实验条件下，钠铁硅系统玻璃形成区的范围是：x(Na2O)=0-52%;x(Fe2O3)=0-20%;x(SiO2)=48%-100%。（2）钠铁硅系统玻璃的磁化率不仅与Fe2O3的含量有关，而且与Fe^3 在玻璃中的结构地位有关，当Fe^3 处于四配位状态时，Fe^3 的3d电子处于弱场高自旋状态，对磁化率的贡献就较大；当Fe^3 处于六配位状态时，Fe^3 的3d电子处于强场低自旋状态，对磁化率的贡献就较小。（3）磁化度的转折点位于x(Fe2O3)＝6％附近。