对采用化学气相沉积法（ＣＶＤ法）制备的硅镀膜玻璃组成、结构、光学性能、化学稳定性等方面作了系统研究，发现随着反应气中乙烯与硅烷的体积比由０．２增大到１．３，薄膜组成中碳化硅含量增加，结晶数目和结晶程度增高，薄膜透过率提高，耐碱性提高。结果表明：在反应温度６３０℃，ＳｉＨ４体积分数１０％左右，Ｃ２Ｈ４与ＳｉＨ４的体积比为０．５，反应混合气流量为４００ｍＬ／ｍｉｎ的工艺条件下制备得到的镀膜玻璃具有Ｓｉ／ＳｉＣ纳米镶嵌复合结构、良好的遮阳性能和外观、较好的化学稳定性，达到了实际应用的要求。